【快讯】中秋期间,国产光刻机取得重大突破,工信部9月9日发布的首台套重大技术突破装备应用目录中,首次披露了国产最新光刻机的信息,其照明波长为193nm,制程小于65nm。该光刻机属于干式DUV光刻机,最高可实现28nm制程,虽然与国际先进水平相比仍有差距,但标志着我国在光刻机领域的独立研发能力取得了显著进展。此外,制冷剂板块也迎来利好,国家公布了25年制冷剂配额方案,增加第三代制冷剂R32的配额,减少第二代制冷剂R22的配额,预计将推动制冷剂价格上涨。
股票名称 ["北方华创","中微公司","拓荆科技","巨化股份","三美股份"]板块名称 ["半导体设备","制冷剂"]关键词 光刻机突破、半导体设备、制冷剂配额看多看空 国产光刻机的突破和制冷剂配额的利好消息,表明国内半导体设备和制冷剂行业有积极的发展前景。
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